光學(xué)材料鍍膜北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所，成立于2001年，自主獨立設(shè)計了離子束刻蝕設(shè)備和雙離子束濺射沉積鍍膜設(shè)備，其自主設(shè)計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3%

真空濺射鍍膜北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所，成立于2001年，自主獨立設(shè)計了離子束刻蝕設(shè)備和雙離子束濺射沉積鍍膜設(shè)備，其自主設(shè)計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3%

磁控濺射鍍膜北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所，成立于2001年，自主獨立設(shè)計了離子束刻蝕設(shè)備和雙離子束濺射沉積鍍膜設(shè)備，其自主設(shè)計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3%

柔性材料鍍膜北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所，成立于2001年，自主獨立設(shè)計了離子束刻蝕設(shè)備和雙離子束濺射沉積鍍膜設(shè)備，其自主設(shè)計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3%

離子束濺射沉積北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所，成立于2001年，自主獨立設(shè)計了離子束刻蝕設(shè)備和雙離子束濺射沉積鍍膜設(shè)備，其自主設(shè)計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3

離子刻蝕技術(shù)北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所，成立于2001年，自主獨立設(shè)計了離子束刻蝕設(shè)備和雙離子束濺射沉積鍍膜設(shè)備，其自主設(shè)計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3%

氬離子刻蝕技術(shù)北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所，成立于2001年，自主獨立設(shè)計了離子束刻蝕設(shè)備和雙離子束濺射沉積鍍膜設(shè)備，其自主設(shè)計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3

離子束拋光機北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所，成立于2001年，自主獨立設(shè)計了離子束刻蝕設(shè)備和雙離子束濺射沉積鍍膜設(shè)備，其自主設(shè)計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3%

新材料傳感器北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所，成立于2001年，自主獨立設(shè)計了離子束刻蝕設(shè)備和雙離子束濺射沉積鍍膜設(shè)備，其自主設(shè)計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3%

離子束鍍膜設(shè)備北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所，成立于2001年，自主獨立設(shè)計了離子束刻蝕設(shè)備和雙離子束濺射沉積鍍膜設(shè)備，其自主設(shè)計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3

高精度薄膜電阻北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所，成立于2001年，自主獨立設(shè)計了離子束刻蝕設(shè)備和雙離子束濺射沉積鍍膜設(shè)備，其自主設(shè)計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3

叉指換能器廠家北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所，成立于2001年，自主獨立設(shè)計了離子束刻蝕設(shè)備和雙離子束濺射沉積鍍膜設(shè)備，其自主設(shè)計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3

聲表面波器件北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所，成立于2001年，自主獨立設(shè)計了離子束刻蝕設(shè)備和雙離子束濺射沉積鍍膜設(shè)備，其自主設(shè)計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3%

薄膜壓力傳感器北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所，成立于2001年，自主獨立設(shè)計了離子束刻蝕設(shè)備和雙離子束濺射沉積鍍膜設(shè)備，其自主設(shè)計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3

離子束鍍膜機北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術(shù)研究所，成立于2001年，自主獨立設(shè)計了離子束刻蝕設(shè)備和雙離子束濺射沉積鍍膜設(shè)備，其自主設(shè)計的考夫曼離子源穩(wěn)定性≤±3%